研究室ブログ

実験施設

Ｍ１棟総合研究棟
 ウルトラクリーンルーム(UCR)ウルトラクリーン実験施設(UCF)

Ｍ１棟

Ge熱処理炉
SiC熱処理炉
ベルジャー蒸着装置
2源蒸着装置
アークプラズマガン／スパッタ成膜複合装置
ヘリコンスパッタ成膜装置
真空仕様急速加熱熱処理装置
（MILA-5000UHV）
急速加熱熱処理装置（MILA-5000）
急速加熱熱処理装置（MILA-3000）
UVオゾナイザ
走査型プローブ顕微鏡
プローバ（雄山）
温度可変プローバ
プローバ（ベクターセミコン）
+ 半導体パラメータアナライザ
分光エリプソメトリ
研磨装置
フォトルミネッセンス測定装置
分子線エピタキシー／ECRプラズマ複合装置
4軸X線回折装置

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総合研究棟

X線撮像装置
分子線エピタキシー装置

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ウルトラクリーンルーム(UCR)

反応性イオンエッチング装置（エイコー）

共通設備

昇温脱離ガス分析装置
透過型電子顕微鏡
全反射蛍光X線分析装置

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ウルトラクリーン実験施設(UCF)

ウルトラクリーン実験施設(UCF)
表面プラズマ処理装置
分子線エピタキシー／XPS複合装置
プラズマリアクタ
急速加熱熱処理装置
SiC用高温アニーラー
3源スパッタ成膜装置
スパッタ成膜装置（X線ターゲット用）
光学顕微鏡
レーザー露光装置
反応性イオンエッチング装置（アネルバ）
マスクアライナ
3源真空蒸着装置
液体ソース・プラズマCVD装置

共通設備

走査型X線光電子分光分析装置
高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
集束イオンビーム加工観察装置
ウェットベンチ

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